在上海国家会展中心举行的第二十六届中国国际工业博览会上，朗道燧岩首次展示了一款EUV光源系统样机。这台样机是目前展出中进度最为领先的国产EUV光源，被誉为高端光刻机的“心脏”。此次展示标志着国产EUV光源技术取得了重要进展，成功从实验室阶段迈向了产业化的第一步。极紫外光源是制造7nm及以下先进制程芯片的三大核心组件之一，然而长期以来这一技术领域被国际巨头垄断，对中国高端芯片的自主可控形成了显著制约。展会上，相关工作人员透露，这款光源系统的国产化率达到了90%，绝大多数关键部件均为国内研发，且技术路线与国际领先企业保持一致，能够用于芯片曝光测试。但需要注意的是，该光源系统距离大规模量产仍需经历3到5年的时间。根据朗道燧岩的官方网站，其低功率EUV光源系统FlintNano LPP-OXXO已经处于产品化推进阶段，具备1000W的激光驱动功率，激光频率在1至20kHz之间，转换效率超过2%，所发EUV能量大于15W，且能持续工作超过100小时，等离子体的尺寸为60微米。同时，高功率极紫外光源系统FlintMicro-LPP系列已经完成了理论验证。朗道科技专注于半导体制造设备的研发、生产及相关技术服务，其创始人王豪博士的团队基于清华大学气体放电等离子体实验室的技术成果，致力于突破高端设备制造中面临的“卡脖子”瓶颈。公司成立于2024年，2025年10月成功获得了张江高科旗下燧玥创投的天使轮融资，随后在2026年1月和7月又分别完成了天使+轮及A轮融资，投资者包括沃衍资本和中芯聚源等。